Perlu dicatat bahwa yang sedang diuji adalah prototipe sumber cahaya, bukan mesin litografi EUV yang siap produksi.

Sistem ini dapat menghasilkan cahaya EUV pada panjang gelombang yang dibutuhkan, tetapi belum digunakan untuk memproduksi chip yang berfungsi.

Sebuah mesin besar di bawah pengamanan ketat

Menurut Reuters, prototipe tersebut menempati hampir seluruh lantai pabrik dan digambarkan oleh sumber sebagai besar dan tidak efisien dibandingkan dengan sistem komersial ASML, yang sejauh ini merupakan pemimpin global dalam mesin litografi EUV yang digunakan untuk produksi chip AI canggih.

Keamanan di sekitar proyek Shenzhen dilaporkan sangat ketat.

Fasilitas ini beroperasi dengan tim yang terbagi-bagi, area kerja yang terisolasi, dan para pekerja menggunakan nama samaran atau identitas palsu untuk mencegah kebocoran informasi.